Лазерний відпал нестехіометричних плівок SiOx

Номер роботи - M 19 НАГОРОДЖЕНА

Представлено Інститутом хімії поверхні імені О.О.Чуйка НАН України.

Автори: к.ф.-м.н. Гаврилюк О.О., к.ф.-м.н. Пилипова О.В.

Метою роботи є  створення фізико-технологічних засад лазер-індукованого відпалу нестехіометричних плівок SiO_x. Авторами отримано чисельний розв’язок рівняння Фур'є і запропоновано підходи для його використання при моделюванні лазерного відпалу нестехіометричних плівок SiO_x.

Досліджено розповсюдження температурних профілів в даній структурі при лазерному відпалі різної інтенсивності, що дає можливості для прогнозування утворення наночастинок в об'ємі, ріст яких сильно залежить від температури. З'ясовано природу змін, які відбулись в плівках SiO₂(Si), після відпалу лазером.

З метою обґрунтування можливості застосування даних структур після лазерного відпалу в мікроелектроніці експериментально досліджені їх електричні характеристики.

Порівняно електричні характеристики даних плівок після термічного і лазерного відпалів. Результати  дослідження  поглиблюють уявлення про процес лазерного відпалу нестехіометричних плівок SiO_xта їх електричні властивості після такої обробки.

Кількість публікацій: 56, у т.ч. за тематикою роботи монографія, 18 статей (7– у зарубіжних виданнях), 18 тез доповідей. Загальна кількість посилань на публікації авторів/h-індекс роботи згідно  з базами даних складає відповідно: Scopus – 9/2; Google Scholar – 43/4.